晶体生长工艺设备
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晶体生长工艺设备
产品名称：VGF晶体生长系统
用途：主要用于半导体材料（砷化镓、磷化铟）的晶体生长。 浏览次数：4609 |
详细介绍
炉体结构： 立式管状；
适用尺寸： 2”--6”；
加热体温区数： 6段；
显示及监控段数： 6点控温，多点监控；
控制方式： 仪表控制或微机控制；
炉体最高工作温度： 高温区1280℃；
温度控制精度： 优于0.2℃；
仪表显示精度： 0.1℃；
更详细的参数欢迎来电垂询！
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